Зволожувальна маска Unstress Optimal Hydration Mask (крок 8) створена для відновлення шкіри та підвищення її стійкості до зовнішніх подразників. Цей професійний догляд ефективно усуває ознаки втоми, сприяє покращенню текстури та надає шкірі здоровий, сяючий вигляд. Маска насичує тканини вологою, підвищує еластичність та допомагає запобігти появі зморщок. Продукти лінії Unstress підтримують імунні процеси в шкірі та захищають від передчасного старіння, зміцнюючи клітинні мембрани та ДНК.
Активні інгредієнти
— Екстракти зародків пшениці та календули, церамиди й пептиди насичують клітини вологою, вітамінами та поживними речовинами.
Спосіб застосування
Нанести Christina Unstress Optimal Hydration Mask однорідним шаром на шкіру обличчя, шиї та декольте, залишити на 10 хвилин, зробити легкий масаж до повного всотуванняя засобу та видалити залишки вологим рушником.
Склад
Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Phenoxyethanol, Carbomer, Stearyl Alcohol, Triethanolamine, Tocopheryl Acetate, Chlorphenesin, Alpha-Glucan Oligosaccharide, Ethylhexylglycerin, Collagen, Linoleic Acid, Sodium hyaluronate, Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil, Perfume, Polymnia Sonchifolia Root Juice, Oleic Acid, Propylene Glycol, Butylene Glycol, Maltodextrin, Olive Glycerides, Plukenetia Volubilis Seed Oil, Honey Extract, Sodium PCA, Caprylyl Glycol, 1,2-Hexanediol, Linum Usitatissimum(Linseed) Seed Extract, Ceramide NP, Polyglyceryl-5 Oleate, Sodium Benzoate, Lactobacillus, Hydrolyzed Elastin, cyanocobalamin, FD&C Blue NO. 1 (CI 42090), Linolenic Acid, Glycogen, Serine, Sorbic Acid, Tocopherol, FD&C Yellow NO. 5 (CI 19140), Benzyl Salicylate, Dipeptide-4.
Об'єм 250 мл.
Зроблено в Ізраїлі.
